Поворотный столик высокого разрешения с большой апертурой
UHV, DUV / EUV, чистая комната ISO 6, n x 360°, повтор 0.0003°, скорость 300°/с, нагрузка 5 кг
- Чистое помещение: варианты до класса ISO 6 (выше - по запросу)
- Вакуум: все диапазоны HV / UHV до 10-11 мбар
- Смазка: жидкая до 10-8 мбар / сухая до 10-11 мбар
- Макс. Температура выпечки: 100°C
Опционально настраивается:
- Доступны магнитные и слабомагнитные версии (без магнитов - по запросу)
- Выбор материала и смазки в зависимости от применения
- Опционально с контроллером FMC400/450
- Индивидуальная разработка с 3D-проектированием, прототипами и серийным производством
Высокоточная и динамичная визуализация
Этот компактный и плоский поворотный столик позволяет достичь чрезвычайно высокого разрешения в вакууме при выполнении быстрых процессов. Благодаря большому просвету 79 мм / 3" можно точно позиционировать, измерять и анализировать даже большие образцы. Его можно объединять в сложные многоосевые системы и легко управлять с помощью наших контроллеров FMC 400/450.
Области применения
Высокоточная и динамическая микроскопия, например, электронный микроскоп, ионный микроскоп, сканирующий электронный микроскоп, сканирующий туннельный микроскоп, пучковое оборудование, синхротрон, исследования материалов, анализ материалов, контроль полупроводниковых пластин, контроль качества полупроводников, исследования полупроводников
---