Метрологическая система для полупроводниковой пластины IMPULSE V

для полупроводников

Интегрированная метрологическая платформа на базе передовой оптики и решений машинного обучения, сочетающая высокую чувствительность с высокой производительностью для CMP, осаждения, травления и литографии. Обзор продукции Система IMPULSE V В условиях ужесточения допусков на однородность между пластинами и в пределах пластин интегрированные метрологические системы используются на различных этапах обработки полупроводников. Основанная на продемонстрированной оптической технологии высокого разрешения, система IMPULSE V обеспечивает более высокую чувствительность измерений остатков тонкой пленки в процессе CMP. Платформа IMPULSE обладает самым надежным в отрасли оборудованием с лучшими в своем классе показателями надежности и производительности. Система нового поколения IMPULSE V расширяет эту надежность при значительно более высокой пропускной способности, оставаясь синхронизированной с потребностью в более высоком уровне отбора образцов, измерений в матрице/на устройстве и на краю пластины. Передовая оптика и специально разработанная измерительная камера обеспечивают значительное улучшение соотношения сигнал/шум (SNR), что позволяет повысить точность в 2 раза по сравнению с предыдущим поколением интегрированной метрологии. Встроенное машинное обучение использует дополнительный SNR для завершения этого мощного пакета, обеспечивая более быстрое время до решения проблемы, а также устраняя пробелы в слоях, которые ранее не поддавались измерению существующим набором инструментов. Система IMPULSE V и система Atlas V образуют комплексное решение по измерению критических размеров тонких пленок и оптических элементов для полупроводниковых заводов, обеспечивая повышение производительности за счет передачи информации с беспрепятственным обменом рецептами и данными.