Метрологическая система для полупроводниковой пластины IMPULSE+

Интегрированная метрологическая платформа на базе передовой оптики и решений машинного обучения, сочетающая высокую чувствительность с высокой производительностью для CMP, осаждения, травления и литографии. Система IMPULSE+, являющаяся стандартом интегрированной метрологии, обеспечивает максимальную чувствительность и точность измерений отклонений процесса CMP и позволяет производителям устройств создавать решения для контроля APC с высокоточной обратной связью. Благодаря программному обеспечению OCD, позволяющему проводить прямые измерения в пределах устройства и активных зон, пользователи могут отслеживать незначительные отклонения процесса и оптимизировать свои процессы для повышения выхода продукции. Система IMPULSE+ работает в сочетании с программными решениями для анализа Atlas и OCD, обеспечивая межмодульную оптимизацию процессов и комплексный контроль процессов в масштабах всей фабрики. Система IMPULSE+ широко применяется на ключевых этапах производства DRAM, 3D-NAND, КМОП-датчиков изображения и литейных/логических устройств.