Метрологическая система для полупроводников Aspect®

Новая метрологическая система Aspect представляет собой революционную оптическую платформу, предназначенную для решения текущих и будущих задач передовых устройств 3D NAND. Обзор продукции Плотность памяти увеличивается как при масштабировании пар слоев, так и при наращивании уровней для стеков памяти более 200 пар. Метрологическая система Aspect была разработана с учетом этих будущих архитектур и стратегий масштабирования. Метрологическая система Aspect демонстрирует производительность, превосходящую рентгеновские системы, на множестве устройств клиентов благодаря революционной инфракрасной оптической системе, обеспечивающей возможность полного профилирования для обеспечения критически важного контроля травления и осаждения с той скоростью и охватом процесса, которые требуются клиентам. Система Aspect оснащена мощным программным аналитическим механизмом, технологией AI-Diffract™, который обеспечивает до 90% более быстрое время получения решения, расширяя ведущее в отрасли программное обеспечение NanoDiffract® за счет использования широких возможностей машинного обучения наряду с высокоточным моделированием. Результатом является одновременное улучшение метрологических характеристик и значительное сокращение времени решения. Области применения - Травление, очистка и осаждение для 3D NAND поколения 7 и последующих поколений - Травление и имплантация для CIS - Травление и имплантация для DRAM - Определение характеристик материалов на устройстве для усовершенствованной логики