Катодная мишень для распыления для нанесения тонкого слоя

Материалы PVD или физического осаждения из паровой фазы включают в себя ряд материалов, которые могут быть использованы для создания тонкопленочных покрытий. Angstrom Sciences предлагает обширный выбор высокочистых материалов для вакуумного осаждения, включая приведенные выше. На качество и функциональность пленки, полученной методом физического осаждения из паровой фазы (PVD), влияют три фактора: качество и производительность источника осаждения, свойства и структура материалов для осаждения, а также внутренняя производительность и расположение системы осаждения и связанных с ней периферийных устройств. Компания Angsstrom Sciences обладает возможностями и ноу-хау для контроля двух из этих трех основных факторов. От мишеней для напыления любого размера до материалов, используемых для термического/электронно-лучевого испарения, Angstrom Sciences имеет возможность предложить и направить наиболее подходящие материалы для любого применения. Не все материалы эквивалентны в этих процессах, так как химический состав исходного материала - это только отправная точка надежного, специфического для конкретного применения процесса. Уровень примесей, размер зерна, кристаллографическая структура/текстура - вот лишь некоторые из соображений, которые учитываются при создании уникальной структуры, подходящей для осаждения. Мы используем различные специализированные технологии обработки, такие как горячее прессование, холодное прессование, горячее изостатическое прессование (HIP), холодное изостатическое прессование (CIP), вакуумное индукционное плавление (VIM) и вакуумное дуговое литье, чтобы получить однородные, мелкозернистые, высокоплотные материалы, соответствующие самым строгим стандартам применения. Все наши PVD-материалы поставляются с анализом состава и примесей, прослеживаемым NIST.