Установка для гравировки полупроводниковых пластин мокрым способом

Инструмент RENA для мокрого травления в каустической или кислотной среде создан для достижения превосходных результатов обработки поверхности при производстве полупроводниковых пластин. Кислотное травление в сочетании с системой быстрой транспортировки обеспечивает точный контроль процесса. Для пластин размером до 300 мм этот полностью автоматизированный инструмент отвечает всем требованиям, предъявляемым к производству полупроводниковых пластин высокого класса. Кроме того, возможности обработки полушагов без носителей гарантируют высочайшую производительность и высокий выход продукции. Наша платформа для травления пластин полностью соответствует всем стандартам SEMI. Характеристики и преимущества Размер пластины до 300 мм Выдающийся контроль формы Остановка травления менее чем за 1 секунду Идеальная однородность травления Работа без носителя Система с половинным шагом для максимальной пропускной способности Расширенный мониторинг процесса Транспортировка нескольких пластин в загрузочный порт OHT