Планово-выпуклые линзы в основном используются для фокусировки параллельных лучей света на пятно. Асимметрия этих линз между передней и задней поверхностью эффективно сводит к минимуму сферические аберрации, особенно в ситуациях, когда объект и изображение находятся на неодинаковом расстоянии от объектива. Оптимальным случаем является, когда объект помещается на бесконечность (рассматривается как параллельные лучи, входящие в объектив), а изображение находится в фокусе, который имеет бесконечное сопрягаемое соотношение, т.е. расстояние между объектом и изображением. Изогнутая поверхность объектива должна быть обращена в направлении объекта.
- Материал: BK7 класс А, тонкий отжиг
- Длина фокуса (f'): ±2%@587.6nm
- Диаметр(φ) Толерантность: +0.0/-0.20
- Толщина центра (Тс): ±0,1
- Центрирование: 3’
- Ошибка формы: 1 ~ 5 бахромы
- Нерегулярность бахромы: 0.2 ~ 0.5 чёлки
- Качество поверхности: 60-40 скретч-даг
- Покрытие: GCL-0101xx: 1/4 волны MgF2 покрытие при
550 нм для угла падения 0°
GCL-0101xxA: VIS Multiple Layers AR
покрытие, Rave≤0.5%@450-800nm
GCL-0101xxB: NIR Multiple Layers AR
покрытие, Rave≤0.5%@800-1100нм
- Диафрагма: 90% диаметр
---