Расходомеры для газа HORIBA

Объемный расход: 0 l/min - 0,1 l/min
Температура процесса: 0 °C - 80 °C
Давление процесса: 1,1 bar - 3,5 bar

... Критически важные процессы производства полупроводников постоянно нуждаются в прецизионных устройствах управления потоком газа, которые обеспечивают как будущие инновации, так и переход от лаборатории к заводу для производства передовых ...

Температура процесса: 0 °C - 80 °C
Давление процесса: 0,13 bar - 4 bar
Повторяемость: 0,01 % - 0,3 %

... может регулировать расход до 0,1% от полного диапазона шкалы, что помогает пользователям оптимизировать гибкость системы подачи газа. Например, если в системе установлено несколько MFC для контроля высокого и низкого расхода, пользователи ...

Температура процесса: 0 °C - 80 °C
Давление процесса: 3,5 bar - 7,5 bar
Повторяемость: 0,03 % - 0,3 %

... Pressure Insensitive обеспечивает упрощенную систему подачи газа Решение для нескольких диапазонов, нескольких газов, нескольких давлений Новые функции позволяют пользователю изменять тип газа, полномасштабный ...

Температура процесса: 15 °C - 45 °C
Давление процесса: 2,4 bar - 4,12 bar

... точностью контролировать расход до 0,025SCCM. Возможность контроля расхода до 0,025SCCM Точное управление настроечным газом, улучшающее настраиваемость процесса ≤ 100 мс Ступенчатый отклик и контроль отклонений между ...

Температура процесса: 15 °C - 60 °C
Давление процесса: 2,4 bar - 3,5 bar

... запатентованного усовершенствованного алгоритма управления расходом с двухклапанной структурой, что позволяет системе подачи газа заказчика решать множество задач. ≤ Быстрое время установления 100 мс по всем параметрам (установка на ...

Объемный расход: 0,1, 0,3 l/min
Давление процесса: 0,5 bar - 4 bar
Повторяемость: 0,15, 0,01 %

... измерение давления снижает стоимость, размер и сложность систем подачи газа. Новая высокопроизводительная функция обеспечивает упрощение системы подачи газа. Типичные многокамерные газовые линии имеют ...

... при этом ультратонкую ширину 10 мм. DZ-107 также повышает максимальную рабочую температуру с 45°C до 60°C, чтобы поддерживать газы, используемые в процессе прецизионного производства передовых полупроводников. Эти функциональные усовершенствования ...