Лазерные источники для переработки материалов Han's Laser

Мощность: 280 W - 320 W
Длина волны: 9,2 µm - 10,8 µm

... прецизионной резки/напыления металлов; эффективен для маркировки, гравировки, надрезки и резки кожи и других неметаллических материалов.
Применения
Обработка поверхности и механическая обработка корпусов мобильных ...

Мощность: 80 W - 200 W
Длина волны: 9,2 µm - 10,8 µm

... подсветкой, прецизионной резки и напыления металлов, а также маркировки/гравировки/рисования/резки кожи и других неметаллических материалов.

Применение
Обработка поверхности и прецизионная обработка корпусов ...

Мощность: 80 W - 200 W
Длина волны: 9,2 µm - 10,8 µm

... Обзор
CO₂- лазерная система HLC Series разработана для точной промышленной резки, сверления и маркировки неметаллических и покрытых материалов. Обеспечивает тонкое управление пучком для ультратонкой обработки ...

Мощность: 500 W

... мощности в серии HFM)

Мощность: 20 W - 100 W

... HFM-HI обеспечивает стабильный лазерный выход высокой мощности при существенном повышении пиковой мощности. Она предназначена для лазерной обработки, требующей высокой пиковой мощности, например: резки и сверления стекла, ...

Мощность: 200 W - 350 W

... выходной мощностью 200–350W, разработанная для высокоскоростной маркировки, точной резки, сварки и различных задач по обработке материалов в промышленных условиях.

Особенности машины

• Доступна в нескольких вариантах

Мощность: 20 W
Длина волны: 1 030 nm

... Обзор

• Femto-10 — фемтосекундный импульсный лазер средней мощности, разработанный для высокоточной микрообработки, резки, маркировки и паттернинга тонких пленок в промышленных условиях производства.

• Продвинутая

Мощность: 80 W
Длина волны: 1 064 nm

... Особенности машины

• Субнаносекундные импульсы (0,1–0,2 нс, настраиваемые); качество луча близкое к дифракционному пределу (M2 ≤1,5); макс. энергия одиночного импульса 0,8 мДж
• Оптическая конфигурация на полностью волоконной основе

Мощность: 20 W - 50 W
Длина волны: 1 030 nm

... Особенности оборудования

• Фемтосекундный импульс
• Высокая энергия импульса и пиковая мощность
• Качество луча, близкое к дифракционному пределу
• Высокая стабильность и надёжность