Система позиционирования 3 оси 782462:002.26

линейнаядля полупроводниковой промышленностидля погрузки/разгрузки полупроводниковых пластин

Максимизация урожайности при минимально возможном пространстве конструкции Эта высокоточная система позиционирования была специально разработана в качестве дополнительного поляризационного фильтра для миниатюризации и автоматизации в EUV-литографии. Она позволяет максимизировать качество экспозиции, а также производительность существующего степпера для обработки пластин в очень ограниченном пространстве размером около 120 x 180 x 31 мм. Для этого три независимо позиционируемых фильтра смещаются на пути луча оптической системы. Он может использоваться для процессов с высоким разрешением в экстремальных условиях окружающей среды, таких как EUV и сухая, а также бескислородная атмосфера чистого азота. Оптимизация точности в экстремальных условиях - Идеально подходит для миниатюризации в автоматизированной EUV-литографии - Максимально увеличивает производительность и разрешение существующих шаговых систем для пластин при минимальных габаритах (примерно 120 x 180 x 31 мм) - Точность до 1,5 мкм в самых экстремальных условиях окружающей среды: EUV, сухая, бескислородная атмосфера чистого азота - Необслуживаемая и гибкая работа в режиме 24/7 в течение многих 1 000 циклов позиционирования, распределенных на 10 лет Возможность расширения: - Различные ходы - Выбор материала и вакуумная смазка, адаптированные к условиям применения - Индивидуальные решения для интеграции в специфическое применение заказчика - Версия для чистых помещений ISO 14644-1 (до класса 1 по запросу)