Система совмещения для субстратов больших размеров

полностью автоматическаядля производства

Обзор
Система разработана для высокоточной экспозиции стекла, сочетает UV-оптическую схему, оптимизированную для тонких рисунков, и механизм высокоточной параллелизации фотомаски и подложки. Полностью автоматическая работа с режимами экспозиции: вакуумный контакт, мягкий контакт и режим близости. Вертикальная и горизонтальная конфигурации для разных размеров масок: вертикальная для больших масок (G5 и выше), горизонтальная для G4.5 или меньше.

Применение
Подходит для обработки стекла на производственных линиях FPD (Flat Panel Display), TP (Touch Panel) и CF (Cell Fabrication).

Технические характеристики

• Допустимый размер подложки: G4.5 - G8.5
• Точность выравнивания: ±1 мкм
• Режимы экспозиции: вакуумный контакт, мягкий контакт, режим близости

Ключевые особенности

• UV-оптическая система, оптимизированная для высокоточной экспозиции
• Механизм высокоточной параллелизации фотомаски и подложки
• Полностью автоматическая работа с выбором режимов экспозиции
• Конфигурации: вертикальная (рекомендуется для G5+) и горизонтальная (рекомендуется для G4.5 или меньше)
• Разработано для интеграции в промышленные производственные линии FPD/TP/CF