- Продукция
- Каталоги
Система совмещения для полупроводниковой пластины настольнаяавтоматическаядля производства
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
Характеристики
- Спецификации
- для полупроводниковой пластины, автоматическая, настольная, для производства, для лабораторий
Описание
Обзор
Применение
Ключевые особенности
Технические характеристики
- Настольная система экспонирования пластин (Mask Aligner), разработанная для НИОКР и мелкосерийного производства.
- Поддерживает три режима контроля зазора: жесткий контакт, мягкий контакт и зазор вблизи (proximity).
Применение
- Обработка стекла, пластин, пленок и керамических подложек.
- Лабораторные НИОКР, прототипирование и мелкосерийное производство.
Ключевые особенности
- Выбор способа юстировки: ручная или автоматическая юстировка.
- Выбор контроля зазора: автоматическая или ручная регулировка зазора.
- Ручная загрузка/выгрузка для гибкой обработки различных подложек.
Технические характеристики
- Рабочие размеры: 12 дюймов, 6-8 дюймов, 4-6 дюймов, 2-4 дюйма и квадратные форматы.
- Загрузка/выгрузка: Ручная.
- Метод юстировки: Ручной или автоматический (выбирается).
- Контроль зазора: Автоматический или ручной (выбирается).
Другие изделия SEIWAOPTICAL
equipment
Расширенный поиск
* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.