Метрологическая система для полупроводников Therma-Probe®

Метрологические системы для ионной имплантации/отжига Therma-Probe® позволяют осуществлять мониторинг дозы имплантации в режиме реального времени для ряда полупроводниковых технологий, включая устройства с усовершенствованными узлами проектирования и составные полупроводниковые устройства. Системы Therma-Probe 680XP и 780 позволяют получать критически важную информацию о дозе и профиле ионной имплантации, равномерности имплантации и отжига, а также о повреждениях в конце диапазона. Кроме того, карты микрооднородности высокого разрешения систем Therma-Probe обеспечивают возможность снятия отпечатков пальцев для разработки процессов имплантации и отжига. Области применения Инженерный анализ, поточный мониторинг процесса, мониторинг инструмента, подбор технологического инструмента Метрологическая система Therma-Probe 680XP поддерживает поточный мониторинг процессов ионной имплантации и отжига для устройств на основе кремния на проектных узлах 2Xnm/1Xnm. Она обеспечивает покрытие измерениями всей матрицы энергии/дозы и создает микрокарты высокой плотности, которые позволяют выявить признаки однородности имплантации и отжига. Therma-Probe 680XP позволяет получать данные для ключевого контроля процессов имплантации и отжига. Метрологическая система Therma-Probe 780 поддерживает поточный мониторинг процессов ионной имплантации и отжига для устройств на основе кремния с проектными узлами <1Xnm. Обеспечивая высокую производительность кратковременного и долговременного обнаружения дозы, Therma-Probe 780 позволяет осуществлять жесткий контроль широкого спектра критических параметров процесса, включая дозу, энергию и AOI для процессов имплантации, а также активацию и восстановление повреждений для процессов отжига. Кроме того, Therma-Probe 780 поддерживает мониторинг процессов ионной имплантации/отжига полупроводников с широкой полосой пропускания (SiC, GaN и т.д.).