Измерительная система толщина SpectraFilm™

спектроскопическаядля пленкивысокой точности

Пленочные метрологические системы SpectraFilm™ F10 и F20 обеспечивают точные измерения тонких пленок для критически важных слоев в современных логических устройствах и устройствах памяти. Благодаря источнику света высокой яркости и технологии широкополосной спектроскопической эллипсометрии с увеличенной длиной волны они обеспечивают быстрые и надежные измерения в сложных технологических процессах. SpectraFilm F10 нацелен на архитектуру транзисторов с затвором по всему периметру при нормах 2 нм и ниже, а также на новейшие узлы DRAM, обеспечивая субангстремную точность для контроля слоев сверхрешетки HKMG и поддержания жесткого распределения порогового напряжения (Vt) для точной настройки производительности. SpectraFilm F20 позволяет точно контролировать тонкие и толстые слои в 3D-структурах NAND с сотнями пар, поддерживая непрерывное масштабирование памяти высокой емкости. В совокупности системы SpectraFilm помогают чипмейкерам достичь точности и производительности, необходимых для самых требовательных современных разработок. Области применения Мониторинг полос пропускания, инженерный анализ, монитор последовательного процесса, монитор инструмента, подбор технологического инструмента Сопутствующие товары Пленочная метрологическая система SpectraFilm F1 обеспечивает надежные, высокоточные измерения толщины тонких и толстых пленок, коэффициента преломления и напряжения для широкого спектра пленочных слоев на 7-нм проектном узле и далее. Пленочная метрологическая система SpectraFilm™ LD10 обеспечивает надежные, высокоточные измерения толщины тонких и толстых пленок, показателя преломления и напряжения для широкого спектра пленочных слоев на 16-нм проектном узле и далее.