Оптический прибор для контроля Archer™

для полупроводниковой пластины с рисунком структурыдля электронной промышленностидефектов

Метрологическая система Archer™ 800 обеспечивает точную обратную связь для определения погрешности наложения на изделии, что позволяет быстро переходить на новые технологии и стабильно производить передовые устройства памяти и логики. Возможность настройки длины волны и оптимизация каждого слоя с разрешением на нанометровом уровне обеспечивает точную и надежную характеристику проблем наложения, связанных с инновационными методами нанесения рисунка, включая EUV-литографию. Благодаря уровню производительности, отвечающему растущим потребностям рынка, система наложения Archer 800, основанная на визуализации, поддерживает повышенную выборку для коррекции сканера высокого порядка и высокую пропускную способность для поточного мониторинга. Усовершенствованные алгоритмы и новая конструкция мишени наложения rAIM® обеспечивают улучшенную корреляцию между ошибками наложения мишени и устройства, помогая литографам точно отслеживать производительность наложения устройства. Области применения Контроль наложения на изделие, мониторинг на линии, квалификация сканера, контроль шаблонов, критический размер (CD) в режиме Brightfield Система метрологии оверлея на основе изображений с настраиваемым источником света для точного, надежного и высокопроизводительного измерения ошибок оверлея в логике ≤7 нм и передовых узлах проектирования памяти. Система метрологии наложения на основе изображений для передовых устройств памяти и ≤10-нм логики. Двойные модули измерения оверлея на основе визуализации и скаттерометрии для ряда технологических слоев на узлах проектирования 2Xnm/1Xnm.