Система сверхвысокочастотного анализа поверхности для профилирования глубины тонкой пленки
Hiden Analytical предлагает чрезвычайно универсальное высокочувствительное оборудование для высокопроизводительного динамического и статического SIMS (масс-спектрометрия вторичных ионов) анализа, открывая новые уровни точности в передовых приложениях. Благодаря расширенному диапазону и возможности получения и идентификации как положительных (+ve), так и отрицательных (-ve) вторичных ионов, рабочая станция SIMS является комплексным решением для анализа состава и профилирования глубины.
Для одновременного анализа ионов +ve и -ve в комплексном пакете SIMS компания Hiden Analytical также разработала инновационную рабочую станцию Hi5 SIMS. Более подробную информацию можно найти в литературе по продукции ниже.
Масс-спектрометрия вторичных ионов, или SIMS, является одним из наиболее чувствительных методов, когда-либо разработанных для исследования самых верхних поверхностных слоев материала на глубине от нескольких сотен нанометров (нм) до одного атомного слоя. Он может получать данные о составе вплоть до частей на миллиард (ppb) и совместим с любым материалом, который может быть надежно протестирован в условиях вакуума. Поэтому приборы SIMS регулярно используются для анализа керамики, металлов, органических материалов, полимеров, полупроводников и многого другого.
Этот метод подразделяется на две различные методики: динамический и статический SIMS. В каждой из них используется первичный пучок ионов, который воздействует на образец в условиях вакуума, вызывая абляцию чрезвычайно малых объемов материала с поверхности - часть этого выброшенного материала будет ионизирована.
---