Машина для нанесения покрытий катодным распылением Discovery V

с помощью магнетронного катодного распылениядля микроэлектронной промышленности

Discovery V оптимален для использования на платформе Versa Cluster. Он обеспечивает плотную однородность, высокую скорость глубины, малую занимаемую площадь и высокую продолжительность работы, предлагая универсальность и надежность при удовлетворении потребностей крупносерийного производства. Тонкопленочные резисторы и датчики Металлические и диэлектрические пленки для подложек Металлические контакты составных полупроводников Исследования и разработки Discovery V - это модуль быстрого равномерного осаждения, полностью интегрированный в платформу Versa с использованием планарного катода для магнетронного распыления. Он использует 300 мм катод и может применяться для стандартных до 200 мм пластин. Он использует регулируемый вращающийся пакет магнитов для оптимизации равномерности и обеспечивает высокую скорость для крупносерийного производства. В конфигурации с планарным катодом катод устанавливается непосредственно над подложкой. Такая конфигурация позволяет добиться жесткой однородности на одной стороне подложки во время напыления для таких свойств, как толщина пленки, листовое сопротивление и коэффициент преломления. Это идеальная конфигурация для тех случаев, когда совместное напыление не является обязательным условием. Эта катодная установка также обеспечивает улучшенный выход, хорошую способность к подъему и высокую скорость осаждения.