Измерительная система критического размера MT270UV

оптическаядля полупроводникавысокой точности

TZTEK предлагает высокоточные и воспроизводимые системы для метрологии масок, которые необходимы при изготовлении масок. Маски могут быть GOG и PSM или другие. В соответствии с требованиями IQC масок на заводе, TZTEK предлагает объективы с большим рабочим расстоянием для защиты маски пелликулой. Для измерения КД на маске система обеспечивает видимую и УФ-подсветку как в отраженном, так и в проходящем режиме. УФ-подсветка может быть использована для измерения ширины структуры до 300 нм, повторяемость (3sigma) в основном находится в диапазоне нескольких нанометров. основные характеристики -Измерение критических размеров маски -Доступно для масок размером до 6 дюймов -Видимая и ультрафиолетовая подсветка в проходящем и отраженном режимах -SECS/GEM -Низкие эксплуатационные расходы, стабильность и надежность