PL711 - это компактная установка для нанесения покрытий напылением по технологии HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering). Она оснащена двумя планарными катодами HiPIMS и позволяет осаждать выбранные нитридные и углеродные покрытия (DLC2, DLC3) с использованием высокопроизводительных процессов.
Плотная плазма с высокой ионизацией в карусели позволяет получать однородные покрытия и высокую скорость осаждения. Покрытия, полученные с помощью PL711, обеспечивают превосходную гладкость поверхности, сохраняя при этом высокую плотность, твердость и отличную адгезию.
Технология
В установке для нанесения покрытий PL711 используются 2 катода планарного напыления с технологией HiPIMS.
Процессы травления
В установке для нанесения покрытий PLATIT PL711 могут использоваться несколько технологий травления, обеспечивающих различные преимущества:
LGD® (Lateral Glow Discharge)
Плазменное травление с использованием аргона, тлеющего разряда
Травление ионами металлов (Ti, Cr)
Виды осаждения
Напыление нитридных покрытий
Реактивные и нереактивные процессы
Мишени: Ti, Cr
Температура нанесения покрытия до 350°C
Напыление Cr и PECVD a-C:H:Si
DLC2 (покрытие PECVD)
Мишени: Cr
Температура покрытия 180-220°C
Нагрузка и время цикла
Объем покрытия: макс. ø600 x H805 мм
Высота нанесения с заданной толщиной покрытия: макс. 500 мм
Нагрузка: макс. 250 кг, больший вес по запросу
Партии/день: 2
Модульные карусельные системы
3 оси или
6 осей или
9 осей
Программное обеспечение
Программное обеспечение PLATIT SmartSoftware (ПК и ПЛК)
Простое управление и обслуживание
Современный пользовательский интерфейс с навигацией по меню на сенсорном экране
Визуализация процесса в реальном времени, включая регистрацию данных и управление данными
Ручное и автоматическое управление процессом
Возможность дистанционной диагностики и технического обслуживания
---