Мишень для распыления вольфрам

Обзор продукта
Спряттер‑таргеты из вольфрам‑никелевой сплава (W–Ni) разработаны для получения электрохромных слоёв в «умном» стекле. Они применяются при реактивном распылении для формирования оксидов вольфрама и оксидов вольфрамовых сплавов, которые в состоянии покоя прозрачны и при подаче постоянного напряжения становятся синими. Легирование оксида вольфрама элементами типа Ni, Mo, Ti или Ta позволяет регулировать удельное сопротивление, время переключения и оптические свойства электрохромного слоя.

Ключевые преимущества

• Высокая чистота: > 99,97 % (3N7)
• Однородная микроструктура и равномерный химический состав
• Регулируемое содержание легирующего элемента (Ni) по спецификации

Ограничения традиционных таргетов и последствия
Таргеты, изготовленные традиционными методами (термораспыление, литьё), часто имеют неравномерное распределение никеля и плотности материала, обычно < 95 % от теоретической плотности. Неравномерность Ni может приводить к наличию свободных ферромагнитных областей никеля, что вызывает нестабильные скорости распыления и отклонения в составе наносимых покрытий. Низкая плотность также ограничивает допустимую толщину таргета и увеличивает частоту его замены в производстве.

Наше решение и технические преимущества
Мы производим W–Ni таргеты методом порошковой металлургии (полный инхаус‑процесс от порошка до готового изделия), что обеспечивает однородную микроструктуру и высокую плотность (> 95 % теоретической). Это позволяет изготавливать таргеты с рабочей толщиной до 18 мм, повышая ресурс и срок службы в процессах напыления и снижая потребность в частой замене.

Микроструктура и распределение никеля
Оптические микрофотографии демонстрируют чистый вольфрам (тёмно‑серый), внедрённый в однородную матрицу вольфрам‑никеля. Свободные или ферромагнитные фазы никеля не обнаружены. Содержание Ni распределено очень равномерно, колебания не превышают ±0,5 мас.% относительно целевого значения.

Таблица – Основные характеристики наших W–Ni таргетов
Плотность (при 20 °C): ≥ 95 % от теоретической плотности
Чистота: > 99,97 мас.% (3N7)
Однородность распределения Ni: < ±0,5 мас.%
Содержание никеля: 25–55 мас.% (конфигурируемо)
Микроструктура: мелкозернистая, однородная

Технические характеристики / спецификации

• Состав: вольфрам‑никелевая сплав (W–Ni), типичное содержание Ni 25–55 мас.%
• Чистота материала: > 99,97 % (3N7)
• Плотность (20 °C): ≥ 95 % от теоретической плотности
• Микроструктура: мелкозернистая и однородная; отсутствие свободных никелевых/ферромагнитных фаз
• Однородность Ni: вариация ≤ ±0,5 мас.% относительно целевого значения
• Процесс изготовления: порошковая металлургия, полный контроль в рамках компании от порошка до готового таргета
• Рекомендуемая рабочая толщина: до 18 мм (плотный материал)
• Преимущества в производстве: стабильные скорости распыления, однородный состав покрытий, продлённый срок службы таргетов