Системы метрологии пленки
Пленочная метрологическая система SpectraFilm™ F1 помогает достичь строгих технологических допусков при разработке логики с нормами менее 7 нм и передовых узлов памяти, обеспечивая высокоточные измерения тонкой пленки для широкого диапазона слоев пленки. Источник света высокой яркости приводит в действие технологию спектроскопической эллипсометрии, которая обеспечивает сигнал, необходимый для точного измерения зазора и дает представление об электрических характеристиках на несколько недель раньше, чем электронное тестирование. Новые алгоритмы FoG™ (пленки на решетке) еще больше увеличивают корреляцию измерений с устройством, позволяя измерять пленки на решетчатой структуре, подобной устройству. Благодаря повышенной пропускной способности SpectraFilm F1 обеспечивает высокую производительность, поддерживая увеличение количества слоев пленки, связанное с передовыми технологиями изготовления устройств.
Области применения
Мониторинг полос пропускания, инженерный анализ, монитор последовательного процесса, монитор инструмента, подбор технологического инструмента
Сопутствующие продукты
SpectraFilm LD10
Пленочная метрологическая система SpectraFilm™ LD10 обеспечивает надежные, высокоточные измерения толщины тонких и толстых пленок, коэффициента преломления и напряжения для широкого спектра пленочных слоев на 16-нм проектном узле и далее.
---