Измерительная система свет UV Wafer

с помощью ультрафиолетадля полупроводниковых пластин

Система измерения ультрафиолетового (УФ) света UV Wafer™ in situ 300 мм использует технологию беспроводных сенсорных пластин для измерения дозы и интенсивности УФ-излучения на поверхности пластины в инструментах процесса осаждения пленок. Позволяя оптимизировать и контролировать ранее недоступные процессы, UV Wafer предоставляет временную и пространственную информацию об интенсивности света, достигающего поверхности пластины от УФ-лампы, используемой для отжига или отверждения FCVD (текучих) оксидов и диэлектрических пленок с низким k. UV Wafer также может выявить вызванный возрастом лампы дрейф или другие изменения в интенсивности лампы, которые приводят к неоднородности свойств пленки. Выявляя проблемы оптической системы в подсистеме УФ-лампы, UV Wafer помогает инженерам усовершенствовать технологические инструменты, что приводит к оптимальным процессам полимеризации. Области применения Разработка процессов, квалификация процессов, квалификация технологического оборудования, мониторинг технологического оборудования, подбор технологического оборудования Осаждение пленки, УФ-отверждение, УФ-отжиг | УФ Высота пластины с сенсорным модулем составляет 4 мм или 6 мм