Автоматическая система подготовки образца ZoneSEM Ⅱ

для лабораториидля SEMдля очистки

Пользователи SEM и STEM / TEM знают эту проблему: получение изображений высокого разрешения часто ухудшается (а то и вовсе становится невозможным) из-за быстрого образования углеродной пленки в зоне наблюдения. Обычно это вызвано газообразными углеводородами, которые непрерывно осаждаются во время наблюдения из-за передачи энергии электронного пучка. Источником этих углеводородов может быть неоптимальный вакуум камеры, который обычно можно улучшить с помощью плазменных очистителей с высокой энергией или более щадящего эксимерного источника света Hitachi "Sparkle". Однако в большинстве случаев доминирующим источником загрязнения являются сами объекты наблюдения и держатели образцов. Здесь плазменная обработка часто оказывается слишком грубой и приводит к изменению или даже разрушению образца. Очистители ZONE от Hitachi для SEM и TEM предлагают мягкую, умную альтернативу, основанную на ультрафиолетовом свете и свободных радикалах кислорода: быстрое и тщательное удаление мешающих углеводородов при значительно меньших затратах энергии по сравнению с плазменными очистителями. Очистители образцов семейства ZONE оснащены ультрафиолетовыми лампами с длиной волны 185 нм и 254 нм, которые разрушают типичные углеводородные связи, расщепляют молекулы кислорода и генерируют реактивные компоненты в виде озона. Встроенный мембранный насос создает регулируемый умеренный вакуум в диапазоне от 13 до 67 кПа. Давление в камере может быть использовано для оптимизации механизма очистки между более окислительным и более физическим в зависимости от типа образца. Особенности продукта: - Для образцов диаметром до 100 мм и высотой до 37 мм - Функция очистки и хранения - Память рецептов - Типичное время процесса 5-15 минут