Массовый спектрометр PSM

четырехполюсныйдля процессадля анализа

Анализатор массы и энергии для диагностики плазмы Плазменные зонды Hiden измеряют некоторые из ключевых параметров плазмы и предоставляют подробную информацию, относящуюся к химии плазменных реакций. Характеристика плазмы Плазменное травление и ALE HiPIMS Нанесение алмазоподобных углеродных покрытий (DLC) Нанесение покрытий импульсным лазерным осаждением (PLD) Магнетронное осаждение пленок SiBCN на постоянном токе Широкий спектр промышленных процессов использует электрическую плазму, и новые приложения быстро развиваются. В микроэлектронной промышленности требования к повышению выхода продукции и уменьшению геометрии устройств означают, что воспроизводимость и понимание процесса являются жизненно важными. Детальное понимание кинетики реакции плазменных ионов и нейтральных видов играет ключевую роль в развитии передовых процессов инженерии поверхности, таких как HIPIMS. Коллектор с дифференциальной накачкой и монтажным фланцем для присоединения к технологической камере Высокочувствительный / стабильный квадруполь с тройным фильтром, диапазон масс до 510аmu Детектор импульсного подсчета ионов с 7-декадным динамическим диапазоном Возможность энергетического анализа с помощью сканирования смещения полюсов 100eV Ионная экстракция / исключающая оптика с настраиваемым встроенным ионизатором для МС с внешним потенциалом Манометр Пеннинга и блокировки для обеспечения защиты от избыточного давления Опция стробирования сигнала и программируемого стробирования сигнала для исследований с временным разрешением в импульсной плазме Анализ нейтралов и радикалов в стандартной комплектации, возможность анализа ионов +ve / -ve Опции Mu-Metal, Radio-metal экранирования, опции работы при высоком давлении MASsoft управление через RS232, RS485 или Ethernet LAN