Удаленный плазменный источник Xstream

Высокоэффективная система Xstream® RPS диссоциирует большие объемы NF3 и быстро очищает камеры, повышая общую производительность инструмента. Его плазменная камера изготовлена из высокочистого алюминиевого сплава и имеет запатентованные возможности охлаждения. Построенная таким образом, чтобы прослужить долгие годы без ремонта и дорогостоящих покрытий камеры, система Xstream RPS является разумным выбором для обеспечения надежности и эффективной работы. - Высоконадежная RPS максимально увеличивает время работы инструмента - Эффективная транспортировка реактивных веществ в технологическую камеру для повышения производительности - Источник плазмы с трансформаторной связью (TCP) со встроенной активной сетью согласования (AMN) - Рабочая частота от 225 кГц до 660 кГц - Модели мощностью 8 кВт/10 кВт - Отказ от дорогостоящих покрытий камеры благодаря изготовленному на заказ алюминиевому сплаву и твердому анодированию типа III - Повышение производительности и долговечности камеры благодаря системе охлаждения, которая минимизирует тепловые нагрузки - Повышение эффективности и улучшение подвода мощности к плазме с помощью активной сети согласования - Точный контроль мощности и процессов благодаря измерениям плазмы в режиме реального времени - Надежное и воспроизводимое зажигание плазмы благодаря запатентованной системе зажигания