Источники питания Ascent® AP, созданные на основе передовой биполярной технологии импульсного постоянного тока AE®, расширяют возможности оптимизации производительности благодаря усовершенствованному формированию импульсов, а также четырехблочному прогрессивному управлению дугой, включающему полный реверс напряжения и самонастраивающиеся параметры дуги. Запатентованная технология формирования импульсов в этом компактном решении упреждает возникновение дуги, а широкий рабочий диапазон открывает возможности использования материалов для повышения гибкости одно- и двухмагнетронных процессов и внедрения инновационных материалов.
- Настройка процесса с широкими параметрами подачи мощности
- Усовершенствованное управление процессом благодаря многоуровневому подходу к подавлению дуги
- Компактное, одноблочное решение (до 30 кВт)
- Технология Set Point Compensation™ для стабильной производительности
- Широкий рабочий диапазон, позволяющий использовать различные технологические материалы
- Совместимость с PowerInsight by Advanced Energy™
- Точное напыление диэлектрических и проводящих пленок
- Расширенный контроль над процессом, гибкость и инновации
- Высокое качество пленок и производительность
- Повторяющиеся, настраиваемые пленки
- Более высокие уровни мощности с меньшим повреждением дугой
- Простая интеграция и управление
---