＆ связывайтесь со всеми клиентами в одном месте круглый год
Стать участником выставки
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
... Al2O3 на переднюю поверхность пластины кристаллического солнечного элемента методом термического атомно-слоевого осаждения (ALD) для формирования пассивирующего слоя. Спецификация Высокая производительность: 12 800 ...
... Тонкопленочное осаждение AlO+SiN. - Процесс атомно-слоевого осаждения, обеспечивающий лучшую однородность пленки. - Многослойная тонкая пленка осаждается на одном и том же технологическом оборудовании или в одной и той же печной трубе, ...
... Источник плазмы - - Стандартный обрабатываемый материалы - Парилен: C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD: Al 2 O 3 , TiO Процесс температура - Парилен: комнатная температура ALD: 60 - 80°C ...
＆ связывайтесь со всеми клиентами в одном месте круглый год
Стать участником выставки
Уточните, пожалуйста
Помогите нам улучшить качество наших услуг:
осталось