Технология экранирования ЭМИ на уровне платы SnapShot предлагает самый низкопрофильный экран на уровне платы, доступный сегодня на рынке.
ЭМИ-экраны SnapShot изготавливаются из запатентованного материала, состоящего из полиэфиримидной пленки толщиной 0,125 мм (5 мил), которая с одной стороны покрыта оловом толщиной 5 микрон. Эта луженая поверхность выступает в качестве проводящего слоя, соединяющегося с плоскостью заземления для завершения создания клетки Фарадея.
Поскольку электромагнитный экран SnapShot на уровне платы покрыт оловом только на одной поверхности, другая поверхность (внутренняя поверхность экрана) представляет собой непроводящий полиэфиримид. В результате получается экран ЭМИ на уровне платы, который можно спроектировать высотой, равной высоте самого высокого компонента, без опасения возникновения короткого замыкания.
Кроме того, каждый экран SnapShot разрабатывается и производится по индивидуальному заказу с помощью нашего процесса термоформовки, который позволяет получить контурный профиль, соответствующий по высоте профилю разводки платы.
---