Система УФ-абляции солнечных элементов с полуразрезом D632D предназначена в первую очередь для лазерной абляции солнечных элементов XBC с полуразрезом. Она использует ультрафиолетовые и зелёные пикосекундные лазеры для абляции рисунков на пленках BSG/PSG, n-poly и a-Si:H, что в сочетании с последующей мокрой обработкой обеспечивает изоляцию p- и n-областей на обратной стороне.
Производительность P1
≥9600 шт./ч при размерах 210 × 105
Производительность P2
≥7200 шт./ч при размерах 210 × 105
Точность выравнивания
≤10 мкм
Лазер с узором, отличающийся превосходной точностью и высокой стабильностью
Признан клиентами за высокую стабильность, превосходную точность выравнивания, минимальную зону термического влияния и высокоэффективную систему удаления пыли
Высокая стабильность
Высокостабилизированная направленная оптическая система.
Высокая однородность
Высокооднородное профилированное световое пятно; поддержка регулировки размера пятна без необходимости замены DOE.
Высокая скорость
Сверхскоростная система сканирования с использованием гальванометра.
Высокая точность
Высокоточное позиционирование и выравнивание.
Высокоэффективная система удаления пыли
Высокоэффективная система удаления пыли, позволяющая свести к минимуму влияние пыли на технологические процессы и компоненты.
---