Машина для нанесения покрытий MOCVD Propel™ Power

тонких слоев

Однопластинчатая реакторная технология, позволяющая использовать эффективные устройства питания на основе GaN Система Propel™ Power GaN MOCVD компании Veeco разработана специально для индустрии силовой электроники. Оснащенная одноваферной реакторной платформой, способной обрабатывать шести- и восьмидюймовые пластины, система наносит высококачественные пленки GaN для производства высокоэффективных силовых электронных устройств. В основе одноваферного реактора лежит ведущая конструкция диска TurboDisc® компании Veeco с революционной технологией, включая новые технологии IsoFlange™ и SymmHeat™, которые обеспечивают однородный ламинарный поток и равномерное распределение температуры по всей пластине. Клиенты могут легко переносить процессы с систем Veeco K465i™ и MaxBright™ на платформу Propel Power GaN MOCVD. Выдающаяся однородность пленки, выход и производительность устройства Особенности длительной кампании и дефекты с низким содержанием частиц обеспечивают исключительную урожайность и гибкость Быстрый цикл обучения ускоряет переход GaN-on-Si от НИОКР к крупносерийному производству Модульная конструкция для простоты конфигурации, эксплуатации и технического обслуживания