Машина для нанесения покрытий PVD RTAS1000

с помощью магнетронного катодного распылениятонких слоеввакуумная

Брызгать магнетрона широко использован для того чтобы депозировать тугоплавкие металлы как тантал, титан, вольфрам, ниобий, который требовали бы очень высоких температур низложения, и драгоценные металлы: Золото и серебр и что также использованы для низложения более низких металлов точек плавления как медь, алюминий, никель, хром etc. Тантал больше всего использован в электронной промышленности как защитное покрытие из-за своего хорошего сопротивления к размыванию. Применения фильма тантала Sputtered тонкого: 1. индустрию микроэлектроники по мере того как фильмы можно реактивно брызгать и таким образом коэффициент резистивности и температуры сопротивления можно контролировать; Медицинские инструменты как тело имплантируют для своего сильно свойства biocompatability; Покрытия на коррозионностойких частях, как thermowells, тела клапана, и крепежные детали; Брызганный тантал может быть также быть использованным как эффективный измененный барьер коррозионной устойчивости если покрытие непрерывно, то, и адэрентн к субстрату запланирован защитить.