Оптическая измерительная система LMS IPRO series

для полупроводниковых пластиндля интегральной схемыдля контроля

Метрологическая система регистрации прицелов LMS IPRO7 предназначена для точной и быстрой проверки точности размещения рисунка на EUV и оптических прицелах для 7-нм узла проектирования. Обеспечивая всестороннюю характеристику погрешности размещения рисунка прицела, LMS IPRO7 позволяет получать данные, используемые для коррекции писателя электронно-лучевой маски и контроля качества прицела в процессе разработки и производства передовых прицелов для узла проектирования. Используя запатентованный метрологический алгоритм KLA, основанный на модели, LMS IPRO7 с высокой точностью измеряет погрешность размещения рисунка как для мишеней, так и для нескольких элементов рисунка на устройстве, что позволяет охарактеризовать и уменьшить вклад, связанный с прицелом, в ошибки наложения устройства на заводе по производству ИС. Области применения Квалификация сетки, проверка качества исходящей сетки, квалификация и мониторинг пишущих масок, мониторинг процесса нанесения сетки, контроль шаблонов на подложках Сопутствующие товары Система метрологии масок для 10-нм технологического узла, поддерживающая измерения как стандартных регистрационных меток, так и особенностей рисунка на устройстве. Система для измерения масок для 32 нм/28 нм узлов проектирования. Благодаря уникальной для отрасли гибкости манипуляторов, LMS IPRO4 поддерживает размеры масок от 4 до 8 дюймов. Нажмите кнопку "Связаться с нами", чтобы получить дополнительную информацию о новых и восстановленных системах.