Оптическая измерительная система LMS IPRO series

для полупроводниковых пластиндля интегральной схемыдля контроля

Метрологические системы регистрации рисунка сетчатки Метрологическая система регистрации сетки LMS IPRO7 предназначена для точной и быстрой проверки эффективности размещения рисунка на EUV и оптических сетках для 7-нм узла проектирования. Предлагая всестороннюю характеристику ошибки размещения шаблона прицела, LMS IPRO7 производит данные, используемые для коррекции пишущей маски электронного луча и контроля качества прицела во время разработки и производства передовых прицелов для узла проектирования. Используя запатентованный KLA алгоритм метрологии на основе модели, LMS IPRO7 с высокой точностью измеряет погрешность размещения шаблона как для мишеней, так и для нескольких элементов шаблона на устройстве, что позволяет охарактеризовать и уменьшить вклад, связанный с прицелом, в ошибки наложения устройства на заводе ИС. Области применения Квалификация сетки, проверка качества исходящей сетки, квалификация и мониторинг пишущей машинки, мониторинг процесса нанесения сетки, контроль шаблонов на подложке Сопутствующие продукты LMS IPRO6: система метрологии масок для 10-нм проектного узла, поддерживающая измерения как стандартных регистрационных меток, так и особенностей рисунка на устройстве. LMS IPRO4: система метрологии масок для узлов проектирования 32 нм/28 нм. Благодаря уникальной для отрасли гибкости манипуляторов, LMS IPRO4 поддерживает размеры масок от 4" до 8". Нажмите кнопку "Связаться с нами", чтобы получить дополнительную информацию о новых и восстановленных системах.