Измерительная система для измерения температуры MaskTemp™ 2

Система измерения температуры прицела MaskTemp 2 in situ используется в масочных цехах для квалификации и мониторинга электронно-лучевых пишущих устройств и высокотемпературных этапов процесса прицеливания. MaskTemp 2 играет ключевую роль в квалификации устройств для нанесения масок электронно-лучевым методом, так как для полного нанесения маски требуется экстремальная стабильность температуры в течение длительного периода времени (до 24 часов). Прибор MaskTemp 2 собирает данные о температуре в течение 24 часов подряд, предоставляя производителям масок данные, необходимые для обеспечения термостабильности системы перед записью критических масок. Mask Temp 2 также поддерживает определение характеристик запекания после экспонирования, контроль равномерности температуры горячей пластины, согласование горячей пластины и другие высокотемпературные технологические приложения, помогая производителям масок выявлять и уменьшать температурные отклонения после записи, которые влияют на конечное качество сетки. Области применения квалификация писателя масок e-Beam, разработка процесса, контроль процесса, квалификация процесса, мониторинг процесса, квалификация инструмента для процесса, согласование инструмента для процесса запись электронной лучевой маски | 20-40°C Запекание после экспонирования | 20-140°C