Лазерная система литографии EVG®770 NT

Система литографии наноотпечатков с пошаговым повторением Поэтапная и повторная наноимпринтная литография для эффективного изготовления мастера EVG770 NT - это универсальная платформа для литографии наноотпечатков с шагом и повтором (S&R) для эффективного изготовления мастер-шаблонов или прямого нанесения рисунка сложных структур на подложки. Этот подход позволяет равномерно копировать шаблоны с небольших матриц площадью до 30 см². Процесс S&R позволяет многократно воспроизводить эти штампы на больших площадях вплоть до подложек размером с панель Gen2. В сочетании с методами алмазного точения или прямой записи оттиск S&R часто используется для эффективного изготовления мастеров, необходимых для производства оптики на уровне пластин или процесса SmartNIL компании EVG. Таким образом, это часто является решающим условием для крупносерийного производства волноводов дополненной реальности, оптических датчиков, дифракционной оптики, метаповерхностей или биомедицинских устройств. Ключевые особенности EVG770 NT включают возможности точного выравнивания, полный контроль процесса и гибкость для удовлетворения технологических требований широкого спектра структур и материалов. Высококачественное изготовление микролинз для оптики на уровне пластин вплоть до наноструктур для SmartNIL® Эффективное масштабирование на большие размеры подложек вплоть до размеров панелей Простая реализация различных типов мастеров Переменные режимы дозирования резиста Изображение в реальном времени во время дозирования, отпечатывания и распаковки Контроль усилия на месте для оттиска и распалубки Оптический контроль расстояния и измерение зазора в реальном времени Опциональная поточная метрология Опциональный буфер для штампов и автоматическая замена Опциональная автоматизированная обработка кассет 80 мм, 4", 6", 8", 12", Gen2 (370 мм x 470 мм) < +/- 1 мкм < +/- 250 нм