Пластина нанопозиционирования XY KLT300 series

механизированная2 осинизковакуумная

- Вакуум: все диапазоны HV / UHV / EUV до 10-11 мбар - Смазочная жидкость до 10-8 / сухой до 10-11 мбар - Макс. Температура выпечки: 120°C - Диафрагма: 80 x 80 мм Возможность конфигурации по выбору: - С измерительной системой и без нее - Опционально с ведущим винтовым приводом или шарико-винтовой передачей со смазкой для более высоких скоростей - Может комбинироваться с поворотными столами (например, DT155) для ротационного применения - Выбор материала и вакуумная смазка в зависимости от применения - Индивидуальная адаптация к условиям установки в камере - Исполнение для чистых помещений ISO 14644-1 (до класса 1 по запросу) - Опционально с контроллером FMC400/450 Высочайшая стабильность в нанометровом диапазоне, даже при работе в сухом режиме Система позиционирования с диафрагмой для проходящего света была скомбинирована из двух линейных этапов LT300 и представляет собой точный и сверхмощный XY-этап для применения в высоком и сверхвысоком вакууме, а также в условиях экстремального ультрафиолетового излучения. Система работает полностью без смазки. Ее концепция скрещенных роликовых направляющих и ведущего винта обеспечивает чрезвычайно высокую стабильность в нанометровом диапазоне. Опционально эта система может быть разработана с шарико-винтовыми передачами со смазкой для более высоких скоростей. Области применения Точное позиционирование тяжелых грузов, исследования в сверхвысоком вакууме и под экстремальным ультрафиолетовым излучением, подготовка образцов, сканирование образцов, обработка образцов, биочипы, юстировка камер, исследование материалов, анализ материалов, лучевая линия, ускоритель, синхротрон