· Характеристики процесса с низким давлением и горячими стенками, обеспечивающие более высокую однородность пленки и хорошую плотность.
· Процесс LPCVD: плотная загрузка подложек практически не влияет на скорость нанесения покрытия, что обеспечивает большую загрузочную способность одной трубы.
· Большее количество температурных зон для надежного обеспечения однородности между пластинками.
· Независимо регулируемый сегментированный воздухозаборник для компенсации эффекта снижения расхода воздуха.
---