video corpo

Влажная линия обработки BatchTex®
для элемента солнечной батареи

Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи
Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи
Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи - изображение - 2
Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи - изображение - 3
Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи - изображение - 4
Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи - изображение - 5
Влажная линия обработки - BatchTex®  - RENA Technologies GmbH - для элемента солнечной батареи - изображение - 6
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Спецификации
влажная, для элемента солнечной батареи

Описание

Компания RENA предлагает лучшие в своем классе технологические решения в области процессов периодического действия для текстурирования, травления и очистки. Технология RENA Batch N способствует развитию технологии высокоэффективных солнечных элементов. Производственное оборудование RENA BatchTex® N - это решение номер один для обеспечения высокой производительности и наилучшего качества процесса щелочного текстурирования монокристаллического кремния (моно-Si). Технологический процесс RENA monoTEX® обеспечивает высококачественный результат текстурирования и является наиболее используемым решением в отрасли. Оборудование основано на платформе RENA Batch N. Автоматизированное технологическое оборудование RENA BatchEtch N представляет собой процесс травления кремниевых солнечных элементов в периодическом режиме. В зависимости от требований заказчика возможны щелочные и кислотные процессы. В оборудование также могут быть интегрированы этапы очистки. Оборудование создано на базе платформы RENA Batch N. Травление и очистка полисиликона оптимизированы компанией RENA. BatchPolyClean обеспечивает значительное повышение эффективности и оптимальную производительность процесса. Эта система совместима с пластинами различных размеров от M0 до G13, а также с кассетами большой емкости. В результате она обеспечивает заметное увеличение производительности, достигающей 15 000 пластин в час, при значительном снижении общей стоимости владения. RENA BatchPolyClean устанавливает новый стандарт для удаления поли-Si, шунтового травления и последующей высокопроизводительной очистки ячеек TOPCon в солнечной промышленности. Автоматизированное технологическое оборудование RENA BatchClean N предназначено для процессов пакетной очистки кремниевых солнечных элементов. В зависимости от требований заказчика предлагается широкий выбор щелочных и кислотных процессов.

---

* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.