Оптическая система контроля Teron™ SL6xx series

для обнаружения дефектов поверхностейдля полупроводниковой пластины

Системы контроля дефектов с ретикулами для применения на заводах по производству ИС Teron™ SL655 используется для оценки качества входящих прицельных сеток и повторной проверки сеток в процессе производства и после их очистки, помогая производителям микросхем защитить выход продукции путем снижения риска печати дефектных пластин. Благодаря технологии STARlightGold™, Teron SL655 обеспечивает чувствительность, необходимую для контроля деградации сетки и обнаружения критически важных дефектов сетки, таких как рост дымки или загрязнение, на всем диапазоне типов масок (ILT, CPL, EUV и т.д.) на 10-нм проектном узле и далее. Teron SL655 также обладает лучшей в отрасли пропускной способностью, поддерживая быстрое время цикла, необходимое для квалификации увеличенного числа прицелов, связанных с передовыми узлами проектирования ИС. Области применения Teron™ SL670e: Контроль EUV и оптических (опционально) сеток в процессе производства микросхем для 7 нм/5 нм технологического узла ИС. Teron™ SL655: Контроль оптической и EUV (опционально) сетки при изготовлении микросхем для 10-нм технологического узла ИС. Teron™ SL650: Контроль оптических элементов при изготовлении микросхем для 20-нм технологического узла ИС. X5.3™: Контроль некритических сеток при производстве микросхем для ИС с конструктивным узлом ≥20 нм. RA (Reticle Analyzer): Система анализа ретикулярных данных для заводов ИС поддерживает такие приложения, как автоматическая классификация дефектов, обзор плоскости литографии и мониторинг развития дефектов.