Измерительная система свет UV Wafer

с помощью ультрафиолетадля полупроводниковых пластин

Система измерения УФ-излучения при осаждении и отжиге на месте Система измерения ультрафиолетового (УФ) света UV Wafer in situ использует технологию беспроводных сенсорных пластин для измерения дозы и интенсивности УФ-излучения на поверхности пластины в процессе осаждения пленки. Позволяя ранее недоступную оптимизацию и мониторинг процесса, UV Wafer предоставляет временную и пространственную информацию об интенсивности света, достигающего поверхности пластины от УФ-лампы, используемой для отжига или отверждения FCVD (текучих) оксидов и диэлектрических пленок с низким k. UV Wafer может также выявить вызванный возрастом лампы дрейф или другие изменения в интенсивности лампы, которые приводят к неоднородности свойств пленки. Выявляя проблемы оптической системы в подсистеме УФ-лампы, UV Wafer помогает инженерам усовершенствовать технологические инструменты, что приводит к оптимальным процессам полимеризации. Области применения Разработка процессов, квалификация процессов, квалификация технологической оснастки, мониторинг технологической оснастки, подбор технологической оснастки Осаждение пленки, УФ-отверждение, УФ-отжиг