Плазменный источник для обработки поверхностей BS-80011BPG

Источник плазмы встроен в вакуумную камеру и генерирует плазму высокой плотности. Источник плазмы можно использовать для плазменного осаждения (ионного покрытия), и можно улучшить свойства пленки для оптических тонких пленок, защитных пленок и функциональных пленок. А также может использоваться для плазменной обработки, такой как очистка и модификация поверхности. Особенности Низковольтная и сильноточная плазма позволяет ионизировать и возбуждать молекулы газа и испаряемые частицы. Возможно реактивное осаждение, особенно подходящее для ускорения окисления пленки. Плазма высокой плотности может генерироваться в массовом пространстве, поэтому возможно высокоскоростное осаждение на большую площадь. Возможна модернизация существующей вакуумной камеры. эффект Улучшение плотности пленки, показателя преломления Производство экологически устойчивых пленок Низковолновой сдвиг Низкое оптическое поглощение (способствует окислению пленки) Улучшение адгезии пленки Улучшение шероховатости поверхности Контроль стресса пленки Характеристики Максимальная мощность плазмы: 6 кВт (160 В, 38 А) Рабочее давление: 1×10-2 до 1 × 10-1Па (Ар, О2, N2 атмосфера) Газ на выходе (Ar): от 8 до 20 мл/мин. Охлаждающая вода: от 7 до 10 л/мин. Метод луча: выбирается из луча отражения и луча облучения.