Система литографии с электронным пучком JBX-3050MV
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
Характеристики
- Тип
- с электронным пучком
Описание
JBX-3050MV — это электронно-лучевая литографическая система переменной формы для изготовления масок с узлами размером от 45 до 32 нм. Его передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. В этой системе EB используется электронный пучок 50 кВ переменной формы и пошаговый каскад.
Особенности
JBX-3050MV — это система электронно-лучевой литографии для изготовления масок и сеток, соответствующая правилам проектирования от 45 до 32 нм. Эта система отличается высокой скоростью, высокой точностью и высокой надежностью записи шаблонов, достигаемой с помощью передовых технологий.
Каталоги
Для этого товара не доступен ни один каталог.
Посмотреть все каталоги Jeol
Расширенный поиск
* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.