Измерительная система двойного лучепреломления Exicor® DUV series

Exicor® DUV и 193 системы DUV измеряет birefringence на глубоких ультрафиолетов длинах волны. 2003 «пожалований R&D 100» выигрывая систему Exicor DUV было начато для того чтобы оценить внутреннеприсущий birefringence в материалах объектива фтористого кальция (CaF2) на длине волны применения 157 nm. Последующее Exicor 193 фокуса DUV на разнообразие материалах используемых в 193 системах nm литографских, специально погружении 193 системы литографированием nm которая требуют самой высокомарочной оптике. Обе из этих систем удовлетворяют измерение на длине волны принципа пользы потребованной изготовлениями материалов точности оптически которые нажимают габарит технологии. Системы DUV и 193DUV Exicor основные системы используемые ведущим industryoptics литографированием изготовляют для того чтобы измерить birefringence в материалах пробела объектива и пробелах photo-mask на длинах волны DUV литографских (157 nm, 193 nm, 248 nm). Эти системы построены с робастной рамкой и компонентами управлением движения высокой пошлины для измеряя оптики X 400 mm до 400 mm и 200+ mm толщиной. Система Exicor DUV также использует уникально локализованную систему смещения кислорода в камере образца потому что ультрафиолетовый свет 157 nm поглощен молекулами кислорода. Эта чистым сухим окружающая среда продутая азотом также предотвращает поколение озона в камере образца DUV. Продувать необходимо для 193 248 nm измерений nm и. Этап скеннирования этих систем большой также позволяет для частей нагрузки множественных более малых на этапе, при опционное програмное обеспечение Exicor Macro+ исполняя автоматизированные режимы для того чтобы просмотреть каждую из частей индивидуально.