1. Продукция
  2. Fujifilm NDT Systems

Проявитель для фоторезиста OPD 262

Проявитель для фоторезиста - OPD 262 - Fujifilm NDT Systems
Проявитель для фоторезиста - OPD 262 - Fujifilm NDT Systems
Проявитель для фоторезиста - OPD 262 - Fujifilm NDT Systems - изображение - 2
Проявитель для фоторезиста - OPD 262 - Fujifilm NDT Systems - изображение - 3
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению

Характеристики

Спецификации
для фоторезиста

Описание

Overview FUJIFILM Electronic Materials предлагает комплексный ассортимент проявителей на основе TMAH для положительных и отрицательных фоторезистов. Доступны готовые к использованию (RTU) и концентрированные формулы для иммерсионной и конвейерной (in-line track) обработки в производстве полупроводников.

Product Lineup
  • Готовые к применению (RTU)
    • Проявитель без поверхностно‑активного вещества (TMAH 2.38 wt%)
    • Проявитель с поверхностно‑активным веществом (TMAH 2.38 wt%)
  • Концентраты
    • Концентрат TMAH 24.9% (требует разведения заказчиком)
    • 10% TMAH с ПАВ (предварительно смешанный концентрат для разведения)
  • Примеры моделей
    • OPD 262 — проявитель без ПАВ
    • OPD 4262 — проявитель с ПАВ широкого диапазона совместимости
    • OPD 4280 — проявитель с ПАВ широкого диапазона совместимости
    • WNRD — проявитель для негативных резистов


Features & Benefits
  • Несколько классов чистоты, включая варианты ультра‑высокой чистоты для передовых и EUV‑приложений
  • Форматы RTU и концентраты для стандартных процессов и разведения на месте
  • Совместимость с иммерсионной и конвейерной (in-line track) обработкой
  • Варианты с ПАВ и без ПАВ для адаптации к резисту и процессу
  • Поставка в больших объемах и в виде концентратов для массового производства


Packaging & Delivery
  • 1000 л IBC (одноразовые или возвращаемые)
  • 200 л барабаны (одноразовые или возвращаемые)
  • Оптовая поставка (в зависимости от региона)
  • 4 x 4 л флаконы


Technical Specifications
  • Химическая основа: TMAH (тетраметиламмоний гидроксид)
  • Типы продуктов: RTU (например, TMAH 2.38 wt%) и концентраты (например, 24.9% TMAH; 10% TMAH с ПАВ)
  • Применение: системы положительных и отрицательных резистов; иммерсионная и in-line track обработка; совместимость с EUV
  • ПАВ: доступно с ПАВ и без ПАВ
  • Классы чистоты: от стандартного до ультра‑высокого
  • Варианты поставки: концентрат, опт, барабаны, IBC, малые ёмкости


Ordering & Support
  • Доступна индивидуальная упаковка и поддержка по разведению для крупных заказчиков
  • Свяжитесь с FUJIFILM Electronic Materials для запросов образцов, технических описаний и регламентной информации

Каталоги

Для этого товара не доступен ни один каталог.

Посмотреть все каталоги Fujifilm NDT Systems
* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.