Overview FUJIFILM Electronic Materials предлагает комплексный ассортимент проявителей на основе TMAH для положительных и отрицательных фоторезистов. Доступны готовые к использованию (RTU) и концентрированные формулы для иммерсионной и конвейерной (in-line track) обработки в производстве полупроводников.
Product Lineup- Готовые к применению (RTU)
- Проявитель без поверхностно‑активного вещества (TMAH 2.38 wt%)
- Проявитель с поверхностно‑активным веществом (TMAH 2.38 wt%)
- Концентраты
- Концентрат TMAH 24.9% (требует разведения заказчиком)
- 10% TMAH с ПАВ (предварительно смешанный концентрат для разведения)
- Примеры моделей
- OPD 262 — проявитель без ПАВ
- OPD 4262 — проявитель с ПАВ широкого диапазона совместимости
- OPD 4280 — проявитель с ПАВ широкого диапазона совместимости
- WNRD — проявитель для негативных резистов
Features & Benefits- Несколько классов чистоты, включая варианты ультра‑высокой чистоты для передовых и EUV‑приложений
- Форматы RTU и концентраты для стандартных процессов и разведения на месте
- Совместимость с иммерсионной и конвейерной (in-line track) обработкой
- Варианты с ПАВ и без ПАВ для адаптации к резисту и процессу
- Поставка в больших объемах и в виде концентратов для массового производства
Packaging & Delivery- 1000 л IBC (одноразовые или возвращаемые)
- 200 л барабаны (одноразовые или возвращаемые)
- Оптовая поставка (в зависимости от региона)
- 4 x 4 л флаконы
Technical Specifications- Химическая основа: TMAH (тетраметиламмоний гидроксид)
- Типы продуктов: RTU (например, TMAH 2.38 wt%) и концентраты (например, 24.9% TMAH; 10% TMAH с ПАВ)
- Применение: системы положительных и отрицательных резистов; иммерсионная и in-line track обработка; совместимость с EUV
- ПАВ: доступно с ПАВ и без ПАВ
- Классы чистоты: от стандартного до ультра‑высокого
- Варианты поставки: концентрат, опт, барабаны, IBC, малые ёмкости
Ordering & Support- Доступна индивидуальная упаковка и поддержка по разведению для крупных заказчиков
- Свяжитесь с FUJIFILM Electronic Materials для запросов образцов, технических описаний и регламентной информации