Система фотолитографии UV-NIL UV/EVG®770

EVG770 - это универсальная платформа для ступенчатой наноимплантационной литографии для эффективного изготовления мастера или прямого структурирования сложных структур на подложках. Такой подход позволяет равномерно воспроизводить шаблоны от небольших матриц размером до 50 x 50 мм на больших площадях до 300 мм подложек. В сочетании с алмазной токарной обработкой или прямыми методами записи, пошаговая печать часто используется для эффективного изготовления мастеров, необходимых для изготовления оптики на уровне вафель или процесса SmartNIL EVG. Основные характеристики EVG770 включают в себя возможности точной центровки, полный контроль технологического процесса и гибкость в соответствии с требованиями широкого спектра устройств и приложений. Особенности Эффективное мастер-изготовление микролинз для оптики на уровне пластин, вплоть до наноструктур для SmartNIL® Простая реализация мастеров разного типа Переменные режимы дозирования резистора Получение изображений в реальном времени во время дозирования, впечатывания и извлечения из формы Регулирование усилия на месте для оттиска и извлечения из формы Опциональная компенсация оптической погрешности клина Опциональное автоматическое перемещение кассеты с кассеты на кассету