Субстрат для электронной промышленности
из оксида алюминияс двойным слоемтонкими слоями

Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями
Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями
Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями - изображение - 2
Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями - изображение - 3
Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями - изображение - 4
Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями - изображение - 5
Субстрат для электронной промышленности - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - из оксида алюминия / с двойным слоем / тонкими слоями - изображение - 6
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Спецификации
из оксида алюминия, для электронной промышленности
Спецификации
с двойным слоем, тонкими слоями

Описание

Оксид алюминия является одним из наиболее экономически эффективных и широко используемых материалов для подложек в микроэлектронных приложениях. Несмотря на то, что многие заказчики будут удовлетворены обжигом поверхности, полировка керамических подложек имеет четыре основных преимущества: Более тонкий рисунок линий После тонкой шлифовки и полировки керамическая подложка может получить более тонкие линии рисунка, что благоприятно сказывается на возможности проектирования более плотных схем и способствует созданию схем с мелким шагом и высокой плотностью межсоединений. Обработка поверхности после обжига обычно достаточна для получения линий толщиной до 1 мм в тонкопленочных и до 5 мм в толстопленочных системах. Формирование более тонких линий, чем эти, на поверхностях, обработанных обжигом, приводит к ухудшению четкости рисунка и, как следствие, к увеличению сопротивления проводников, что препятствует прохождению тока и снижает производительность схемы. Плохая четкость рисунка может также способствовать аномалиям характеристик в ВЧ- и СВЧ-схемах, поэтому мы будем ее полировать. Улучшение параллельности верхней и нижней поверхностей Шлифовка и полировка подложки позволяет улучшить параллельность между верхней и нижней поверхностями. Это позволяет более жестко контролировать емкость и индуктивность подложки при ее металлизации и нанесении рисунка. Поскольку емкость и индуктивность являются основными факторами, определяющими импеданс, увеличение параллельности может улучшить предсказуемость и производительность ВЧ- и СВЧ-цепей.

---

ВИДЕО

Каталоги

Для этого товара не доступен ни один каталог.

Посмотреть все каталоги Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd

Другие изделия Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd

Alumina Ceramic

* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.