Плазменная машина для обработки поверхностей VacuTEC 5050

вакуумная

Плазменная установка VacuTEC 5050 компании Tantec предназначена для обработки большого количества различных деталей, изготовленных методом литья под давлением. VacuTEC обеспечивает очень быстрое время обработки и оптимальные адгезионные свойства для последующего нанесения покрытий, склеивания, окраски и печати. В камере обработки создается вакуум от 0,1 до 3 мбар, после чего через встроенный плазменный электрод создается электрический разряд. Время цикла обработки зачастую невелико - от 5 до 600 секунд в зависимости от материала и его рецептуры. Эффективный размер для продуктов на 2 полках: 500 x 500 x 100 мм. VacuTEC ценится за простоту эксплуатации, надежность в производстве и высокую скорость процесса. Простота установки и использования Подключение к электросети. Быстрое время обработки Высокая мощность удара обеспечивает время обработки от 5 до 600 секунд, в зависимости от материала. Уровень вакуума Плазменный разряд действует при давлении 0,1 - 3 мбар в зависимости от условий применения. Технологический газ Могут использоваться такие технологические газы, как кислород и аргон, но в большинстве случаев в этом нет необходимости. Управление процессом Весь процесс плазменной обработки контролируется генератором HV-X и блоком ПЛК. Все параметры отображаются на сенсорной панели. Экономичная обработка поверхности Благодаря низкому энергопотреблению и отсутствию необходимости в использовании специальных газов для обработки, установка является очень экономичным решением для улучшения смачиваемости и адгезии поверхности. Плазма под вакуумным давлением Позволяет обрабатывать как проводящие, так и непроводящие поверхности. Дверь камеры Откидная дверь с окном и предохранительным выключателем. Напряжение и частота сети 100-480 В переменного тока 50/60 Гц Выходное напряжение/мощность плазмы 5 кВ / 1000 Вт Источник питания Генератор HV-X10