Печь для жидкофазной эпитаксии ESY–10 TTT
трубчатаявертикальнаяиз графита

печь для жидкофазной эпитаксии
печь для жидкофазной эпитаксии
печь для жидкофазной эпитаксии
печь для жидкофазной эпитаксии
печь для жидкофазной эпитаксии
печь для жидкофазной эпитаксии
печь для жидкофазной эпитаксии
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Функция
для жидкофазной эпитаксии
Конфигурация
трубчатый
Другие характеристики
вертикальный, из графита, промышленный
Максимальная температура

МИН.: 0 °C
(32 °F)

МАКС.: 1 050 °C
(1 922 °F)

Описание

Оборудование для ЛПЭ для гибкого использования Ключевыми характеристиками концепции SOF Optoelectronics ESY-10 являются высокая производительность в сочетании с гибкостью для различных типов технологий производства ЛПЭ. Производительность 50 пластин для процесса пяти плавок и 200 пластин для процесса одной плавки демонстрируют высокий потенциал данного типа оборудования. В дополнение к стандартному оборудованию ESY-10 для промышленного использования могут быть реализованы решения, разработанные заказчиком, с большим количеством опций. Особенно ESY-10 может быть адаптирована к требованиям научно-исследовательских институтов и университетов. ESY-10 может быть спроектирован как одно- или двухместная (сдвоенная) система для уменьшения размера занимаемой площади в чистом помещении. Доступные технологии производства Стандартная инфракрасная Мощный инфракрасный Power IR (Low UF) Мощный оконный ИК Мощный инфракрасный для IrDA 870 нм Мощность инфракрасного излучения для IrDA 850 нм Низкодопированный GaAs Основные технические характеристики Одиночная или двойная система Вертикальная кварцевая трубка LPE 3 зоны нагрева Плоская зона постоянной температуры: 250 мм Температура до 1,050°C Точность регулирования температуры: ± 0,5 °C Мин. Необходимое пространство: 1,2 x 1,2 м² Высокая однородность толщины слоя за счет горизонтального роста слоя Полностью автоматическая компьютерная Контролируемая обработка Регистрация данных всех параметров процесса Подходит для многослойных эпитаксиальных процессов Подходит для пластин диаметром до 4″ Гибкая адаптация емкости пластин Минимум 3 пластины для разработки Максимум 200 пластин для производства Принципиально графитовая система ESY-10 состоит из чередующихся неподвижных и подвижных графитовых пластин с углублениями, удерживающими подложки. Производительность системы определяется высотой штабеля графитовых пластин.

---

* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.