·Одноэтапное двустороннее нанесение покрытия с толщиной одностороннего слоя 30 нм–1000 нм;
·Обеспечивает скорость процесса 3–50 м/мин и большую ширину нанесения покрытия — 1650 мм;
·Расширяемая камера нанесения для многопроцессного и высокоскоростного нанесения покрытия;
·Сброс вакуума и изоляция: обеспечивают быструю смену валков без сброса вакуума;
·Автоматическое управление нанесением покрытия, ПИД-регулирование температуры для охлаждения валков и управление через компьютерный интерфейс.
---