video corpo

Сухая очистительная установка SC-CSZJ9600E-20F
для водыдля полупроводниковой пластиныдля процесса

сухая очистительная установка
сухая очистительная установка
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Технология
для воды, сухой
Применение
для процесса, для полупроводниковой пластины

Описание

Используется для удаления и очистки диффузионных кремниевых пластин. Технологический процесс Удаление обмотки→После очистки→Кислотная очистка→После очистки→Кислотная очистка→Сушка горячей водой→Сушка (для справки) - Производительность: 400шт/пакет, 9600шт/ч (210мм пластины), 480шт/пакет, 12000шт/ч (182мм пластины). - Доступны различные технологии добавок. - Толщина пластин до 120 мкм. - С зоной сухой очистки и системой самоочистки. - Быстрая смена ванны. - Доступны MES, система RFID, опционально - поточное весовое тестирование.

---

Салоны

Вы сможете встретиться с этим поставщиком на выставке(-ах)

Intersolar 2024
Intersolar 2024

18-21 июн. 2024 Munich (Германия) Зал Vide - Стенд A2.137

  • Дополнительная информация
    * Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.