Внутренние и легированные пленки аморфного кремния.
Процессы
Ионизированные газы-предшественники наносят тонкие пленки на подложку.
- Быстрое радиочастотное зажигание с минимальной мощностью отражения для равномерного и стабильного осаждения пленок.
- Отработанная и стабильная многократная подача по технологии RF, совместимая даже с большой технологической камерой.
- Непрерывный регулируемый газ между диффузором и подложкой обеспечивает гибкие технологические возможности.
- Высокая производительность при относительно низкой стоимости, возможность индивидуального проектирования.
- Модулированная конструкция для простоты установки и обслуживания, а также высочайший уровень безопасности от проектирования до производства.
---